Elektronenstrahl-Lithographiesystem
TED · 741369-2026Award noticeNo deadline given
Buyer
NameWalther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
CountryDE
Published2026-10-27
Deadline—
Value
Estimated—
Awarded—
CPV codes
38000000 Laboratory, optical & precision equipment38341100 Laboratory, optical & precision equipmentDescription
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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