Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
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Firms with recorded awards from Friedrich-Schiller-Universität Jena in this tender’s CPV categories — the incumbents you are bidding against.
| Firm | Wins | Awarded | Last win |
|---|---|---|---|
| Analytik Jena GmbH+Co. KG | 1 | €623,706 | 2026-06-30 |
| Nanoscribe GmbH & Co. KG | 1 | €588,157 | 2026-05-28 |
| PicoQuant GmbH | 1 | €436,320 | 2026-06-09 |
| Sirah Lasertechnik GmbH | 1 | €324,364 | 2026-05-28 |
| THORLABS GmbH | 1 | €200,146 | 2026-05-28 |
Full buyer profile: what Friedrich-Schiller-Universität Jena buys and who wins it →
CPV codes
38000000 Laboratory, optical & precision equipmentDescription
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
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