Beschaffung eines Substrathandlers für die Ionenstrahlanlage RIBF1000
CPV codes
42000000 Industrial machineryDescription
Im Rahmen einer SAB/EFRE-Investitionsmaßnahme wurde die Beschaffung eine reaktivgastaugliche Ionenstrahlanlage beantragt und bewilligt. Eine europäische Ausschreibung für diese Anlage erfolgte gemäß VOB. Den Zuschlag für Bau und Lieferung der Anlage erhielt die Fa. Scia systems. Bei der Anlage handelt es sich um ein neu zu konstruierendes System, d.h. eine Sonderausführung, das in dieser Form bisher nicht als serienmäßiges Produkt angeboten wird. Im Zuge der Konstruktion der Anlage (v.a. Sonderausführung des Bewegungssystems, Carrier-Haltesystem) hat sich ergeben, dass die Beladung mit Substraten mit geometrischen Dimensionen von 1000 mm x 1000 mm x 300 mm und einer Masse von 300 kg + 200 kg Carrier nur mit einem speziell ausgelegten Substrathandler möglich ist. Die Substrate müssen zunächst auf einem Carrier montiert werden. Um das Substrat in die Anlage einzuführen, ist eine Schwenkung des Carriers um 180° erforderlich. Danach muss der Carrier auf eine Beladehöhe von ca. 3 m angehoben werden und anschließend in die Anlage transferiert werden.
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