← Back to explorer

Bezmaskový laserový litografický systém/Direct-Write Optical Lithograph

TED · 337090-2026cn-standardClosed 10 days ago

Buyer

NameVysoké učení technické v Brně

CountryCZ

Published2026-05-18

Deadline2026-06-15

Value

Estimated€410,965 · 10,000,000 CZK

Awarded

CPV codes

38000000 Laboratory, optical & precision equipment38600000 Laboratory, optical & precision equipment31712000 Electrical machinery & lighting31700000 Electrical machinery & lighting

Description

Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Účelem požadovaného zařízení je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur. Zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností. Pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace.

Source

View the official notice on TED