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maskenloses UV-Direktlithographie-System

TED · 351798-2026cn-standardCloses today

Buyer

NameFriedrich-Schiller-Universität Jena

CountryDE

Published2026-05-22

Deadline2026-06-25

Value

Estimated—

Awarded—

CPV codes

38000000 Laboratory, optical & precision equipment

Description

Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2

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